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【新华社】中国电科实现离子注入机全谱系产品国产化
来源:新闻中心
发布时间:2021年03月18日 编辑:王雪姣

  新华社北京3月17日电(记者温竞华)记者17日从中国电子科技集团有限公司获悉,该集团旗下装备子集团已成功实现离子注入机全谱系产品国产化,可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。

  离子注入机是芯片制造中的关键装备。在芯片制造过程中,需要掺入不同种类的元素按预定方式改变材料的电性能,这些元素以带电离子的形式被加速至预定能量并注入至特定半导体材料中,离子注入机就是执行这一掺杂工艺的芯片制造设备。

  据介绍,中国电科连续突破高性能离子源、高速晶圆传输等“卡脖子”技术,自主研制中束流、大束流、高能、特种应用及第三代半导体等离子注入机,工艺段覆盖至28nm,累计形成核心发明专利413项,实现我国芯片制造领域全谱系离子注入机自主创新发展,有效缓解我国芯片制造领域断链、短链难题。

  装备子集团有关负责人表示,下一步,企业将瞄准高端,紧跟先进工艺发展,加快研发适用于更先进工艺节点的离子注入机并积极推进产业化。(完)

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